金属氧化物半导体传感器(MOS):MOS传感器的交叉干扰来自两个方面：PN结和催化剂。很早人们就发现硅片上的PN结的电阻对温度、湿度和环境空气是敏感的。后来人们为了放大该敏感度，就在PN结上涂上了对可燃气敏感的催化剂，并加热之，这样就构成了MOS传感器。MOS也不具有气体选择性，从市面上的传感器技术资料看来，凡是可燃气，MOS都是有响应的，如下图

如何消除交叉干扰?

催化燃烧传感器(LEL)：很难消除。一般说来，LEL传感器对可燃气都有响应，这种响应是叠加的。只有一种可以实现，那就是去除分子比较大的HC类气体，用分子筛的过滤器来去除，其副作用是造成传感器响应时间的延长.

如何消除交叉干扰?

催化燃烧传感器(LEL)：很难消除。一般说来，LEL传感器对可燃气都有响应，这种响应是叠加的。只有一种可以实现，那就是去除分子比较大的HC类气体，用分子筛的过滤器来去除，其副作用是造成传感器响应时间的延长.

催化燃烧传感器(LEL)：很难消除。一般说来，LEL传感器对可燃气都有响应，这种响应是叠加的。只有一种可以实现，那就是去除分子比较大的HC类气体，用分子筛的过滤器来去除，其副作用是造成传感器响应时间的延长。

电化学传感器(EC):首先要知道被测气体的种类，然后在传感器的交叉灵敏度表格中查到交叉干扰的系数。如果查不到，就需要找传感器的供应商技术支持工程师咨询。最好的消除交叉干扰的办法是过滤其他气体，例如，CO传感器内部会加入能够过滤掉H2S,NO和NO2的过滤器。当然，这种过滤器也是化学物质，是消耗型的，有寿命的。而且，化学过滤器也不能过滤掉所有干扰气体。如果几种被测气体是混在一起的，都要测出浓度，而且，EC传感器对它们的交叉灵敏度又都不为零，那就需要用联立多元一次方程组的办法来解决了。此办法在烟气分析的仪器中是标准算法。

非色散红外传感器(NDIR):几乎不需要消除交叉干扰，因为不同气体的红外吸收波长是不一样的。唯一比较特别的是，水蒸气对HC类气体检测的干扰。根据个人经验，在40℃，90%RH的条件下，NDIRCH4传感器的读数会比真值高1500PPM以上。在这种情况下，如果需要提高测量精读，就需要用制冷除水法或用Nafion管除水法将大量的水蒸气去除。红外CH4传感器对HC类的气体都是有交叉响应的，因为CH4传感器实际上测量的是H-C键的浓度，所以只要有H-C键的气体，红外CH4传感器实际上都能测量。

光离子化传感器(PID):基本上无法消除。因为PID是用来测量可挥发有机物(VOC)的，而通常VOC的分子都比较大，例如碳链长度≥4。如果用分子筛或者活性炭过滤，VOC就都被吸附了，无法到达传感器，也就测不出VOC浓度。但是，用活性炭过滤气体，对PID来说有另外一个好处，就是可以用活性炭过滤过的空气来标定零点。

金属氧化物半导体传感器(MOS):基本上无法消除。MOS是用来测量PPM级别的CH4、CO、H2、HC类有机气体的，即使没有催化剂的存在，PN结的电阻也会随着以上气体的浓度而发生改变，因此无法区分。如果一定要消除交叉干扰，也这只能采用过滤的方法来操作，利用分子筛过滤器。